1.溅射

溅射是用气体等离子轰击固体靶材得到原子的过程。大量溅射出来原子沉积形成一层极其薄膜覆盖在基材的表面。这种技术经常应用在半导体，CD盘，磁盘驱动器，光学设备中用来沉积薄膜。溅射薄膜具有出色的均匀性，粘合力, 密度，纯度。通过常规的溅射也可能生产精密合金部件。

2.辉光放电质谱法(GDMS)

GDMS的工作原理是将表面平整的被测样品作为辉光放电的阴极，样品在辉光放电装置中产生阴极溅射，被溅射的样品原子离开样品表面扩散到等离子中，通过各元素质荷比和响应信号的强弱对比分析元素进行定性或者定量分析。 GDMS具有分析速度快，灵敏度高，分辨率高以及可以直接以固体样品形式分析等优势，因此被用于高纯金属材料的纯度分析。

3.区域熔炼

区域熔炼是一种深度提纯金属的方法, 是通过局部加热狭长锭料，形成一个狭窄的熔融区，并移动加热使此狭窄熔融区按一定方向沿锭料缓慢移动，利用杂质在固相与液相间平衡浓度的差异，在反复熔化和凝固的过程中，杂质便重新分布或偏析到固相或液相中而得以除去， 从而达到提纯目的。

4.粉末冶金

粉末冶金是用金属粉末作为原料，经过成形和烧结，制造金属材料、复合材料以及各种类型制品的工艺技术。粉末冶金最重要的因素是粉末颗粒，压制工艺和烧结工艺。粉末冶金具有生产效率高，产品质量稳定好，可以生产难熔金属等优势。